半导体光刻测量系统
半导体光刻测量系统
半导体光刻测量系统

光源从Keysight 5517系列激光器发出,应用10717A波长跟踪器和多轴测量镜组进行测试。跟踪空气折射率的变化,对环境变化进行光学补偿,以减小环境温度等因素影响波长轻微变化所带来的结果偏差。多轴系统客户的位移台发生一个极小的位移,可通过软件读取数据,这个数据分辨率在纳米级。

半导体光刻测量系统,被测物与探测系统之间一般要产生相对运动才能测出所需参数。 位移系统的作用就是产生探针相对于样品的扫描运动,是其中最基础的部分。激光干涉仪对光刻系统中平台、运动控制系统、自动对位系统等进行校准,保证系统的稳定性。

  • 产品特点
  • 主要参数

l双频激光干涉仪,双频输出保证光刻系统测量精准性

l系统固件稳定,极低的底噪和漂移量,保证光刻系统的稳定性

l高定位精度和重复精度

l精确的传感器,进行环境温漂等的补偿

l多轴板卡可在一次测量中得到所有轴的测量数据


主要测量参数:相对位置/速度等等

激光在真空中波长: 632.991372 nm (5501B, 5517A/B) ,632.991354 nm (5517C/D)

波长精度:± 0.1 ppm

波长稳定性(典型值):短程(1 小时): ± 0.002 ppm

长程 (全部时间): ± 0.02 ppm

测量分辨率:0.15nm

激光器最大输出光功率:1mW

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